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1500℃真空气氛烧结炉

发布时间:2024-08-09  浏览次数:79

设备简介:
  1500℃箱式气氛炉是一款高度专业化的实验设备,集成了真空、冷却、沉积和热处理等多种功能于一体,广泛应用于材料科学、化学、半导体、新能源等领域。

   此设备以其独特的真空冷却沉积技术和精确的温度控制能力,成为实验室中进行高温处理、材料合成和性能测试的理想选择。通过优化设计和控制技术,这种设备能够提高实验效率和数据准确性,促进材料科学领域的研究与发展。

  

配置详情

设备特点:

1. 真空环境:炉体内部设计为真空环境,支持高真空度,减少氧气和其他杂质的影响,适用于需要在高纯度条件下进行的材料制备和处理过程。

2. 冷却系统:配备高效的冷却系统,如水冷,确保在沉积过程中能够快速冷却样品,提高沉积材料的质量。

3、气氛控制:支持多种气氛环境,包括真空、惰性气体(如氮气、氩气)等,以适应不同的实验需求。

备名称

箱式气氛炉

Tmax

1500℃

额定温度

1450℃

规格型号

NBD-VA1500-30TID2F10LW

供电电源

三相380V 50HZ

额定功率

6KW

传感器类型

单铂姥S型热电偶

升温速率

1℃/H-20℃/Min

炉膛尺寸

300*300*400mm

炉体尺寸

1560*1730*1020mm(长*高*深)

重量

400KG

控制系统

 

 1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;

 2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;

 3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;

 4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;

 5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正

冷却沉积罐 采用双层水循环冷却装置,降低罐内温度,使得低温冷凝物质全部冷凝于罐内,防止出气端出现堵塞。

温度精度

±1℃

加热元件

 

抗酸耐腐性能优越的高纯硅碳棒

设备使用注意事项

 1.设备炉膛温度≥300℃时,禁止打开炉膛,避免受到伤害;

 2.炉膛连续使用产生的轻微裂纹属于正常现象,不影响设备的正常使用。

服务支持

一年有限保修,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如处理管和O形圈,请在下面的相关产品处订购更换件)

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