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五温区CVD一体机

发布时间:2023-11-10  浏览次数:434

设备简介:

  化学气相沉积(CVD)是指化学气体或在基质表面反应合成涂层或米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积薄膜材料的技术,包括大范围的绝缘材料,以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统,适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域;



  


高温CVD一体机由以下几部分组成。

▲烧结系统;▲电控系统;▲上盖开启系统;▲真空系统;



配置详情

设备特点:

1、控制稳定可靠,操作方便。

2、采用先进的PID自学习模糊控制,控温精度高,保持在±1℃。

3、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果更好,节能降耗。

4、数据存储功能,可保存烧结的重要参数,时长达30天之久(每天开机8小时)。

5、配方功能,可预存配方100条以上。

6、五个温区独立控制,使客户烧结工艺更加复杂多样。

7、联网功能,通过RJ45接口,采用TCP/IP协议,可以让系统与上位机相连(上位机需安装相应软件)。

产品型号

NBD-T1200-100T5G4F

供电电源

三相380V 50HZ

额定功率

10KW

测温元件类型

K型热电偶 200mm

最高温度

1150℃

加热温区尺寸

Φ150*1135mm

炉管尺寸

Φ100*1600mm

炉体尺寸

1900*高1250*深900mm

推荐升温速率

10℃/min

重量

350kg

设备细节

       

控制系统

 

1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;
  2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;
  3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;
  4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;
  5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。

温度精度

±1℃

流程控制画面


服务支持

1年质保,提供终身支持(保修范围内不包括易耗部件,例如炉管和O形圈等) 


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