发布时间： 2023-06-09 浏览次数：2946
设备简介：化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法，是半导体工业中应用非常广泛的用来沉积薄膜材料的技术，包括大范围的绝缘材料，以及大多数金属材料和金属合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统，适用于各大高校材料实验室、科研院所、环保科学等领域。
| 设备特点： 1、低真空、高真空、气氛烧结均可。 2、控制稳定可靠，操作方便，安全防护措施完善。 3、采用先进的PID自学习模糊控制，控温精度高，保持在±1℃。 4、高低温区采用物理隔离，可分别设置工艺曲线。 5、兼具旋转摆振功能，可更好满足客户需求。 6、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料，保温效果更好，节能降耗。 7、具有物联网功能（WIFI），可通过手机、电脑远程对设备进行监控，操作。 8、数据存储功能，可保存烧结的重要参数，时长达30天之久（每天开机8小时）。 9、配方功能，可预存配方100条以上。 10、多重防呆功能，让客户使用起来更加安全。 11、联网功能，通过RJ45接口，采用TCP/IP协议，可以让系统与上位机相连（上位机需安装相应软件）。 | ||||||
产品型号 | NBD-RT1700-120T2DY | ||||||
供电电源 | 三相380V 50HZ | ||||||
额定功率 | 15KW | ||||||
测温元件类型 | B型热电偶 150mm | ||||||
低温区最高温度 | 1400℃ | ||||||
高温区最高温度 | 1600℃ | ||||||
加热温区尺寸 | 长660×深220×高160mm | ||||||
炉体尺寸 | 长1200mm×高1260mm（不含点火器）×深760mm | ||||||
最高真空度 | 1*10-1Pa | ||||||
最大摆动角度 | -18° | ||||||
最小摆动角度 | 4° | ||||||
炉管最大转速 | 14r/min | ||||||
炉体尺寸 | 长2650×深1050×高1450mm | ||||||
推荐升温速率 | 5℃/min（刚玉管不宜急冷急热） | ||||||
设备细节 |  | ||||||
控制系统 |
| 1. NBD-101PE嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式； 2. 带压力保护控制， 3. 烧结工艺曲线设置：动态显示设置曲线，设备烧结可预存多条工艺曲线，每条工艺曲线可自由设置； 4. 可预约烧结，实现无人值守烧结工艺曲线烧结； 5. 实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据，并可导出实现无纸记录； 6. 具有实现远程操控，实时观测设备状态； 7. 温度校正：主控温度和试样温度的差值，烧结全程进行非线性修正； 预留留485接口支持MODBUS协议，客户可远程实现电脑采集烧成温度; | |||||
弱腐蚀性气体预热器 （可选配） |  | 通体采用316L材料，对于各种气体以及腐蚀性气体的预加热处理，满足特殊的工艺需求，最高温度达600℃。 | |||||
温度精度 | ±1℃ | ||||||
流程控制画面 |
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重量 | 约600KG | ||||||
服务支持 | 1年质保，提供终身支持（保修范围内不包括易耗部件，例如炉管和O形圈等） | ||||||
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